421.一百在簡述化學機械拋光技術的基礎上，提出化學機械拋光過程中，受載的粗糙峰和被拋光的晶片表面之間存在一納米量級的薄流體膜，形成了納米級薄膜流動系統。

422.具有優良的彈性、磨性和拋光效率。

423.磨料水射流拋光是新出現的一種精密加工技術。